Tropel UltraFlat系统高级分析和掩模测量仪器

晶片

Tropel UltraFlat系统

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康宁Tropel®UltraFlat 200口罩系统

康宁Tropel®UltraFlat 200口罩系统

的Tropel®UltraFlatTM200掩模系统是专门为掩模行业设计的。它提供了最低的测量不确定性,为不断收紧的口罩平面规格。缩小的器件特性不仅要求更平的晶圆,而且要求更平的掩模。

的UltraFlatTM该系统用于测量光板和掩模在生产和使用的各个阶段的平整度,包括基材抛光、涂布和制版,以分析薄膜应力,并进行验证。

的UltraFlatTM该系统利用近正入射干涉测量法、坚如铁的结构设计、最先进的光学制造技术和Tropel著名的相移分析软件,提供20纳米的测量不确定度。

该系统是美国国家标准和技术研究所(NIST)可跟踪的,并提供符合SEMI标准的测量。自动化掩模处理和测量配置也可用。

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