康宁公司合并(纽约证券交易所代码:GLW)今天宣布Tropel已经商业化^®UltraFlat™用于EUV系统，一种新的掩模测量系统，旨在帮助半导体制造商满足极端紫外线(EUV)半导体光刻的新的平面度要求。

从2018年开始，半导体行业EUV的平面度规格预计将低于10纳米。直到现在，当前的计量基础设施还不能满足这些严格的规范。

用于EUV的Tropel UltraFlat系统是专门为使毛坯制造商和掩模车间开发所需的工艺，以实现EUV光刻的严格覆盖要求，帮助提供更高的产量和制造效率。

“基于我们与掩模和半导体制造商密切合作的经验，我们知道平整度对EUV将变得更加重要，”David Velasquez说。康宁先进光学．“我们已经工作了两年多来了解需求，并开发了一个解决方案，不仅大大提高了我们的测量能力，而且还收集了掩模商店所需的关键信息，以优化他们自己的开发和运营工作。通过利用我们在光学物理方面的核心技术，康宁能够推出用于EUV系统的UltraFlat，这进一步扩展了我们在EUV光刻技术方面的领先地位。”

Katherine Ballman，康宁特种材料的应用工程师，将展示一篇技术论文，详细介绍康宁在这一领域的研究。这篇论文题为“覆盖补偿方法的误差分析和EUV掩光板平直度的拟议功能公差”，将于4月8日在大阪举行的日本掩光板会议上发表。

康宁公司生产全系列的非接触式光学设备计量系统在其位于纽约费尔波特的工厂。这些系统设计用于广泛的环境中，快速和准确地测量表面的平整度，平行度，高度，深度，表面光洁度或厚度。欲知详情，请浏览://www.akinfefatou.com/metrology．

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