光刻应用的成像系统
20：1投影软X射线光刻使用三级抗蚀剂
一种193 nm深紫色光刻系统，使用线窄的ARF准分子激光器
建筑世界级微型光刻镜头系统：光学材料要求和资格方法
高NA投影系统的设计与分析0.35μm深紫色光刻
193 nm浸入光刻的高指标材料
浸入光刻微观物镜
用于DUV＆VUV微光刷过程的光学设计形式
绩效增强157纳米牛顿偶然偶联目标
微光刻的要求和设计照明器

定制光学系统和设计解决方案
垂直集成的光学系统供应商的优势
大型缩放范围的MWIR连续变焦的开发
增加Zernike的精度适合嘈杂的截断相位图
本地化斜率误差及其对图像性能要求的影响
使用镜头设计软件建模干涉仪
现代镜头设计使用镜头制造数据库
MWIR连续缩放大型缩放范围
噪声作为宽带波前编码光学系统的设计约束
从工程到生产制造的光学设计补偿
光重致密可见缩放摄像头的光学审查
扫描瞳孔容忍
使用先进的灵敏度方法来进行新型光学补偿方法
使用应用程序编程接口（API）允许非光学设计师执行特定的光学评估

光学元件的测量方法
非接触式轮廓测定法的非球面对称像差的表征
通过机械和光学分析软件闭环优化光机械结构
一般非球面常规光学测试的新仪器
用于准确的粗糙部件和组件的准确计量的频率 - 踩踏干涉测量
功能公差使用全面计量
激光散斑减速系统
一种评估和耐受干涉仪设计的方法
高折射率玻璃晶片的光学特征，用于增强现实可穿戴物
高数孔径DuV目标的极化计量

用于工业应用的高速激光加工
从原则证明到高速激光加工工具的98.5％

液体透镜技术
用液体透镜技术改善虹膜识别