资源| Advanced Optics | Corning

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技术论文

采用线窄ArF准分子激光的深紫外光刻系统

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建立世界一流的显微光刻镜头系统

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光机电结构的软件优化

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深uv光刻用高NA投影系统的设计

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大变焦范围MWIR连续变焦的研制

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通用非球面光学检测新仪器

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20:1投影软x射线光刻，使用三层抗蚀剂

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罗思元件和组件的频率步进干涉测量

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全表面计量的功能公差

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用于193nm浸没光刻的高折射率材料

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浸没式光刻Micro-Objectives

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激光散斑消除系统

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使用透镜制造数据库的现代透镜设计

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局部斜率误差对图像性能要求的影响

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干涉仪设计的评估与公差方法

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用镜头设计软件建模干涉仪

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MWIR连续变焦与大变焦范围

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噪声作为宽带波前编码系统的设计约束

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从工程到生产的光学设计补偿

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用于DUV&VUV微光刻工艺的光学设计表格

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新型光学补偿方法的高级灵敏度方法

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一种轻型紧凑型可见变焦相机的光学机械评论

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垂直集成光学系统供应商的好处

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157nm牛顿折射率物镜的性能增强

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微光刻用照明器的要求与设计

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扫描瞳孔公差

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利用非接触轮廓术对像差进行表征

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非光学设计人员执行光学评估的接口

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提高Zernike拟合噪声截断相位图的精度

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特种玻璃和玻璃陶瓷
产品信息表和QSSE证书

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